对于理想的低分子量内用型抗静电剂,其设计应满足以下多方面要求:
高热稳定性:在聚合物加工的高温环境(100~300℃)下保持稳定,不分解。
良好相容性:与树脂相容性佳,避免喷霜现象,不影响制品的印刷和粘接性能。
易加工性:易于混合,不干扰制品的正常加工流程。
助剂兼容性:能与其他添加剂和谐共存,无相互干扰作用。
性能保护:不损害制品的稳定性和物理机械性能。
安全性与环保:无毒或低毒,对皮肤友好,不污染环境。
成本效益:在保证性能的前提下,价格应尽可能低廉。
ILSML ®团队专注高端光学透明抗静电剂研发、生产,以不改变透明性和较低添加量为开发目标,使胶层及其组件改性达到长效至半永久透明防静电, 鉴于该领域无宽适用面产品的现状,为满足用户不同场景对不同抗静电性能的需求,通过机理研究结合实验验证的开发模式,持续不断推出新品和解 决方案,如 5~8 次方、UV 适用、热固适用、弱极性相容、无卤/氟、低撕膜电压等,在保护膜、离型膜、偏光片等光学膜领域得到充分验证与使用, 并持续逐步丰富和更新专用产品品类来提升产品适配宽度与成功率。