微观尺度上来看，由于不同分子接触后，部分外层电子由私有变成共有，在外力作用下，共有电子优先与作用力强的一方结合被带走，当分子自身无法快速安置额外带来的外层电子，或者无法短时间内处置因流失外层电子所造成的空穴电荷，就会表现出电性，撕膜电压便由此产生。
ILSML®专注高端光学透明抗静电剂研发、生产，以不改变透明性和较低添加量为开发目标，使胶层及其组件改性达到长效至半永久透明防静电，鉴于该领域无通用和宽适用面产品现状，针对用户不同树脂需求通过机理研究结合实验验证的开发模式持续不断推出新品和解决方案，UV可用、热固可用、弱极性相容、无卤、低撕膜电压等，在保护膜、离型膜、偏光片等光学膜领域得到充分验证与使用，并逐步丰富专用产品品类来提升产品适配宽度与成功率。
