ILSML®推出降粘光学透明抗静电解决方案

ILSML®团队研发、投产的II2110、II2120等光学透明抗静电剂，在保持其自有性能不受影响的同时，可解决因其他抗静电剂等改性剂引起的压敏胶（PSA）树脂粘度变高的问题。

ILSML®光学透明抗静电剂II2110、II2120等与诱发胶粘度增加的抗静电剂可以按照1:5~2:5搭配使用，通过反向机理选择性解除不良作用，可将改性胶的粘度控制在正常水准。

UV可用、热固可用、弱极性相容、无卤、低撕膜电压等，在保护膜、离型膜、偏光片等光学膜领域得到充分验证与使用，并逐步丰富专用产品品类来提升产品适配宽度与成功率。