当前撕膜电压解决方案分析

从产生的机理出发解决问题难度较大，这种微观作用力的设计与分析都很难，理论与实际偏差很大，且偶联到材料的其他属性太多，很难实施，从产生后再处理思路出发解决问题，可行性更高些。第三组分的介入是目前较为可行的解决方案，例如抗静电剂。

ILSML ®团队专注高端光学透明抗静电剂研发、生产，以不改变透明性和较低添加量为开发目标，使胶层及其组件改性达到长效至半永久透明防静电， 鉴于该领域无宽适用面产品的现状，为满足用户不同场景对不同抗静电性能的需求，通过机理研究结合实验验证的开发模式，持续不断推出新品和解 决方案，如 5~8 次方、UV 适用、热固适用、弱极性相容、无卤/氟、低撕膜电压等，在保护膜、离型膜、偏光片等光学膜领域得到充分验证与使用， 并持续逐步丰富和更新专用产品品类来提升产品适配宽度与成功率。