ILSML独家解决撕膜电压的方案

ILSML®着力于该领域产品开发的过程中，构建出截止到目前为止相对完备的作用机理理论体系，结合理论分析解决诸如用于UV体系对光引发剂不敏感控制、用于非/弱极性体系提升相容性、实现8次方产品结构或构成设计、理解与解释出现的问题与现象如有些时候随着抗静电剂添加量增加撕膜电压不降反而会有所增大，等等，业内为数不多可通过已确立的6个抗静电作用机理模型结合高分子与材料热力学理论对不同应用场景的需求有选择性的设计产品和相应解决方案。

例如：结合现有理论基础，若存在正离子大概率偏移方向与电子漂移方向一致的抗静电剂，测算并设计出抗静电剂最优添加量，是最佳解决方案之一，但眼下直接用于实践难度较大；类似从抗静电剂自身角度出发解决撕膜电压问题的还有另一个可行的解决方案，在此不作展述。

在与用户未达到深入交流了解足够信息之前，ILSML®通过让用户测定几组锚定的样品后绘制正交表，从中找出规律，再按照目标设计样品交由用户进一步测试，通过此法解决问题的用户中，撕膜电压最小可达到80V。

ILSML ®团队专注高端光学透明抗静电剂研发、生产，以不改变透明性和较低添加量为开发目标，使胶层及其组件改性达到长效至半永久透明防静电， 鉴于该领域无宽适用面产品的现状，为满足用户不同场景对不同抗静电性能的需求，通过机理研究结合实验验证的开发模式，持续不断推出新品和解 决方案，如 5~8 次方、UV 适用、热固适用、弱极性相容、无卤/氟、低撕膜电压等，在保护膜、离型膜、偏光片等光学膜领域得到充分验证与使用， 并持续逐步丰富和更新专用产品品类来提升产品适配宽度与成功率。